eine Graphitdeckschicht wurde bewertet, um die Oberfläche von strukturierten und selektiv implantierten 4-h-epitaxialen Wafern während des Postimplantationstemperns zu schützen. az-5214e-Photoresist wurde im Vakuum bei Temperaturen im Bereich von 750 bis 850ºC versponnen und gebacken, um eine kontinuierliche Beschichtung auf sowohl planaren als auch mesa-geätzten Oberflächen mit Merkmalen von bis ...
pam-xiamen produziert qualitativ hochwertige Gallium-Antimonid (Gas) Einkristall-Ingots. Wir runden auch runde, gesägte, geschnittene und polierte Gaswafer ab und liefern eine epi-ready Oberflächenqualität. Gaskristall ist eine Verbindung, die durch 6n reines ga- und sb-Element gebildet wird und durch Flüssig-Einkapselte-Czochralski (lec) -Verfahren mit epd \u0026 lt; 1000 cm -3. Gaskristall hat e...
In diesem Artikel betrachten wir die Entwicklung von unpolaren (d. h. m-plane und a-plane) und semipolaren (d. h. (20.1) plane) Wafern mittels Ammonothermal-Verfahren. Die Wachstumsverfahren und Polierergebnisse werden beschrieben. Es ist uns gelungen, nicht- und halbpolare Wafer mit 26 mm × 26 mm herzustellen. diese Wafer besitzen hervorragende strukturelle und optische Eigenschaften mit einer Di...
Xiamen Powerway Advanced Material Co., Ltd, ein führender Anbieter von Epi-Service für Gaas-basierte Laser-Wafer-Wachstum und andere damit zusammenhängende Produkte und Dienstleistungen kündigte die neue Verfügbarkeit der Größe 3 \"ist in der Massenproduktion im Jahr 2017. Dieses neue Produkt stellt eine natürliche Neben Pam-Xiamen Die Produktlinie. DR. shaka, sagte, \"wir freuen uns, Quantentopfl...
Wir stellen einen neuartigen Prozess zur Integration vor Germanium mit Silizium-auf-Isolator (soi) Wafern. Germanium wird in SoI implantiert, das dann oxidiert wird, wobei das Germanium zwischen den zwei Oxidschichten (dem gewachsenen Oxid und dem vergrabenen Oxid) eingeschlossen wird. unter sorgfältiger Kontrolle der Implantations- und Oxidationsbedingungen erzeugt dieser Prozess eine dünne Schic...
ein mikrobearbeiteter Algan / gan-Transistor mit hoher Elektronenbeweglichkeit ( Saum ) auf einem Si-Substrat mit diamantähnlichen Kohlenstoff / Titan (dlc / ti) Wärmeableitschichten wurde untersucht. überlegene Wärmeleitfähigkeit und Wärmeausdehnungskoeffizient ähnlich dem von Gan aktiviert dlc / ti, um die wärme des gan-stroms effektiv durch die si-substrat-via-löcher zu dissipieren. dieser hmt ...
Ein Inas / si-Heteroübergang, der durch ein Nasswaferbondverfahren mit einer Annealingtemperatur von 350 ° C gebildet wurde, wurde mittels Transmissionselektronenmikroskopie (TEM) untersucht. Es wurde beobachtet, daß in einem Hellfeld-Bild inas und si gleichmäßig in einem 2 μm langen Sichtfeld ohne irgendwelche Hohlräume verbunden waren. ein hochauflösendes tem-Bild zeigte, dass zwischen deni...
Die jüngsten Fortschritte beim Wachstum von epitaktischen Filmen auf Si sind im Überblick. Die grundlegenden klassischen Methoden, die derzeit für das Wachstum von Sic-Filmen verwendet werden, werden diskutiert und ihre Vor- und Nachteile werden untersucht. Die Grundidee und der theoretische Hintergrund für eine neue Methode zur Synthese von epitaktischen Filmen auf Si sind gegeben. Es wird gezeig...
Kontakt Informationen
luna@powerwaywafer.compowerwaymaterial@gmail.com 
+86-592-5601 404
