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1Xiamen Powerway bietet Gap-Wafer - Galliumphosphid, die durch Lec (Flüssigkeit eingekapselt Czochralski) als Epi-Ready oder mechanische Klasse mit n-Typ, p-Typ oder halbisolierend in unterschiedlicher Orientierung (111) oder (100) gezüchtet werden.
Galliumphosphid (Spalt), ein Galliumphosphid, ist ein Verbindungshalbleitermaterial mit einer indirekten Bandlücke von 2,26 eV (300k). das polykristalline Material hat das Aussehen von blass orangefarbenen Stücken. undotierte Einkristallwafer erscheinen klar orange, aber stark dotierte Wafer erscheinen aufgrund der freien Trägerabsorption dunkler. es ist geruchlos und in Wasser unlöslich. Schwefel oder Tellur werden als Dotiermittel verwendet, um Halbleiter vom n-Typ herzustellen. Zink wird als Dotierstoff für den p-Typ-Halbleiter verwendet. Galliumphosphid findet in optischen Systemen Anwendung. sein Brechungsindex liegt zwischen 4,30 bei 262 nm (UV), 3,45 bei 550 nm (grün) und 3,19 bei 840 nm (ir).
Spezifikationen von Lücke Wafer und Substrat | |
Leitungstyp | n-Typ |
Dotierstoff | s dotiert |
Waferdurchmesser | 5 0,8 +/- 0,5 mm |
Kristallorientierung | (111) +/- 0,5 ° |
flache Ausrichtung | 111 |
flache Länge | 17,5 +/- 2 mm |
Trägerkonzentration | (2-7) × 10 ^ 7 / cm 3 |
Widerstand bei RT | 0,05-0,4 Ohm.cm |
Mobilität | u003e 100 cm² / v. S |
Ätzgrübchendichte | u003c 3 * 10 ^ 5 / cm² |
Laserbeschriftung | auf Anfrage |
Oberflächlich | p / e |
Dicke | 250 +/- 20um |
Epi bereit | Ja |
Paket | Einzelwafer-Behälter oder Kassette |