eine Graphitdeckschicht wurde bewertet, um die Oberfläche von strukturierten und selektiv implantierten 4-h-epitaxialen Wafern während des Postimplantationstemperns zu schützen. az-5214e-Photoresist wurde im Vakuum bei Temperaturen im Bereich von 750 bis 850ºC versponnen und gebacken, um eine kontinuierliche Beschichtung auf sowohl planaren als auch mesa-geätzten Oberflächen mit Merkmalen von bis ...
In diesem Artikel betrachten wir die Entwicklung von unpolaren (d. h. m-plane und a-plane) und semipolaren (d. h. (20.1) plane) Wafern mittels Ammonothermal-Verfahren. Die Wachstumsverfahren und Polierergebnisse werden beschrieben. Es ist uns gelungen, nicht- und halbpolare Wafer mit 26 mm × 26 mm herzustellen. diese Wafer besitzen hervorragende strukturelle und optische Eigenschaften mit einer Di...
Waferskalenanordnungen von wohlgeordneten pb (zr0,2ti0,8) o3-Nanodisks und Nanoringen wurden auf der gesamten Fläche (10 mm × 10 mm) der srruo3-Bodenelektrode auf einem Srrio3-Einkristallsubstrat unter Verwendung der Laserinterferenzlithographie hergestellt (lil) Prozess kombiniert mit gepulster Laserablagerung. Die Form und Größe der Nanostrukturen wurde durch die Menge an pzt, die durch die gemu...
Wir berichten über das au-assistierte chemische Strahlepitaxie-Wachstum von defektfreien Zinkblende-insb-Nanodrähten. das gewachsene insb Segmente sind die oberen Abschnitte von Inas / Insb-Heterostrukturen auf Inas (111) b -Substraten. Wir zeigen, dass Zinkblende Insb ohne Kristalldefekte wie Stapelfehler oder Zwillingsflächen wachsen kann. Die Strain-Map-Analyse zeigt, dass das INSB-Segment inne...
Die jüngsten Fortschritte beim Wachstum von epitaktischen Filmen auf Si sind im Überblick. Die grundlegenden klassischen Methoden, die derzeit für das Wachstum von Sic-Filmen verwendet werden, werden diskutiert und ihre Vor- und Nachteile werden untersucht. Die Grundidee und der theoretische Hintergrund für eine neue Methode zur Synthese von epitaktischen Filmen auf Si sind gegeben. Es wird gezeig...
Es ist immer noch eine große Herausforderung für Halbleiter-basierte Geräte, einen großen Magnetowiderstand (MR) -Effekt bei einem niedrigen Magnetfeld bei Raumtemperatur zu erhalten. In dieser Arbeit werden die photoinduzierten mr - Effekte unter verschiedenen Beleuchtungsintensitäten bei Raumtemperatur untersucht halbisolierendes Galliumarsenid ( si-gaas ) auf ag / si-gaas / ag Gerät. die Vorric...
hochzugbelastete Sub-Monoschicht ge Nanostrukturen auf Gas wurden durch Molekularstrahlepitaxie gezüchtet und mittels Ultrahochvakuum-Rastertunnelmikroskopie untersucht. vier verschiedene deckungsraten von ge nanostrukturen auf gasb werden erreicht und untersucht. Es wird gefunden, dass das Wachstum von Gas auf Gas dem 2d-Wachstumsmodus folgt. das Kristallgitter der Sub-Monoschicht ge Nanostruktur...
Dieses Papier schlägt eine neue dreidimensionale (3d) Photolithographie Technologie für einen hochauflösenden Mikrostrukturierungsprozess auf einem Fasersubstrat. Ein kurzer Überblick über die Lithographie-Technologie der nicht-planaren Oberfläche wird ebenfalls vorgestellt. Die vorgeschlagene Technologie umfasst hauptsächlich die Mikrofabrikation des 3D-Belichtungsmoduls und die Sprühabscheidung ...
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