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Hochdotiertes 3C-SiC vom p-Typ auf 6H-SiC-Substraten

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Hochdotiertes 3C-SiC vom p-Typ auf 6H-SiC-Substraten

2019-11-11

Hochdotierte p-3C-SiC- Schichten mit guter Kristallperfektion wurden durch Sublimationsepitaxie im Vakuum gezüchtet.  Die Analyse der Photolumineszenzspektren und der Temperaturabhängigkeit der Ladungsträgerkonzentration zeigt, dass in den untersuchten Proben mindestens zwei Arten von Akzeptorzentren bei ~ E V  + 0,25 eV und bei  E V + 0,06–0,07 eV existieren. Es wird der Schluss gezogen, dass Schichten dieser Art als p-Emitter in 3C-SiC-Bauelementen verwendet werden können.


Quelle: IOPscience

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