Unter Verwendung einer plasmaunterstützten chemischen Dampfabscheidung (PECVD) bei 13,56 MHz wird eine Keimschicht in der anfänglichen Wachstumsstufe des hydrierten mikrokristallinen Materials hergestellt Siliziumgermanium (μc-Si1-xGex: H) i-Schicht. Die Auswirkungen von Impfprozessen auf das Wachstum von μc-Si1-xGex: Hi-Schichten und die Leistung von μc-Si1-xGex: H p-i-n Solarzellen mit Einzelübe...
Orthogonale Experimente zum Wachstum von GaSb-Filmen GaAs-Substrat wurden mit einem Niederdruck-Metall-Organisch-Gasphasenabscheidungssystem (LP-MOCVD) entwickelt und durchgeführt. Die Kristallinitäten und Mikrostrukturen der erzeugten Filme wurden vergleichend analysiert, um optimale Wachstumsparameter zu erreichen. Es wurde gezeigt, dass der optimierte GaSb-Dünnfilm am halben Maximum (358 Bogens...
Bei homogenen Materialien ermöglicht das Ultraschall-Immersionsverfahren, das mit einem numerischen Optimierungsprozess verbunden ist, der meist auf dem Newton-Algorithmus basiert, die Bestimmung elastischer Konstanten für verschiedene synthetische und natürliche Verbundmaterialien. Eine wesentliche Einschränkung des bestehenden Optimierungsverfahrens liegt jedoch vor, wenn sich das betrachtete Ma...
Ein berührungsloses, zerstörungsfreies Bildgebungsverfahren für die ortsaufgelöste Dotierstoffkonzentration, [2.2] N d, und den elektrischen Widerstand, ρ, von n- und p-leitenden Siliziumwaferndie Verwendung von Lock-in-Trägerographiebildern bei verschiedenen Laserbestrahlungsintensitäten wird vorgestellt. Amplituden- und Phaseninformationen von Waferstellen mit bekanntem spezifischem Widerstand w...
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