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monokristallines Float-Zone-Silizium
fz-Silizium das monokristalline Silizium mit den Eigenschaften eines niedrigen Fremdstoffgehalts, einer geringen Defektdichte und einer perfekten Kristallstruktur wird mit dem Float-Zone-Verfahren hergestellt; während des Kristallwachstums wird kein Fremdmaterial eingeführt. die fz-Silizium-Leitfähigkeit liegt üblicherweise über 1000 Ω-cm, und das fz-Silizium wird hauptsächlich verwendet, um die Elemente hoher Spannung und photoelektronische Bauelemente zu erzeugen.Hot Tags : Schwimmzone fz Silizium Fließzonenprozess Silizium-Ingot Silizium-Wafer Silizium-Ingot-Hersteller
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