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Defektcluster-Erkennungssystem für gefertigte Halbleiterwafer

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Defektcluster-Erkennungssystem für gefertigte Halbleiterwafer

2018-01-19

Die internationale Technologie-Roadmap für Halbleiter (itrs) identifiziert Produktionstestdaten als ein wesentliches Element zur Verbesserung von Design und Technologie in der Feedbackschleife des Herstellungsprozesses. Eine der Beobachtungen, die aus den Daten zur Produktion von Großserienproduktion gemacht wurde, ist, dass Matrizen, die aufgrund eines systematischen Versagens ausfallen, dazu neigen, bestimmte einzigartige Muster zu bilden, die sich als Defektcluster auf der Wafer-Ebene manifestieren. Die Identifizierung und Kategorisierung solcher Cluster ist ein entscheidender Schritt auf dem Weg zur Verbesserung der Ausbeute und zur Implementierung einer statistischen Echtzeitprozesssteuerung. Um die Bedürfnisse der Halbleiterindustrie zu adressieren, schlägt diese Forschung ein automatisches Defektcluster-Erkennungssystem für Halbleiterwafer vor, das eine Genauigkeit von bis zu 95% erreicht (abhängig vom Produkttyp).


Schlüsselwörter

Herstellung von Halbleiterscheiben; Klassifizierung von Defektclustern; Anerkennung; Merkmalsextraktion


Quelle: sciencedirect


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