In diesem Artikel betrachten wir die Entwicklung von unpolaren (d. h. m-plane und a-plane) und semipolaren (d. h. (20.1) plane) Wafern mittels Ammonothermal-Verfahren. Die Wachstumsverfahren und Polierergebnisse werden beschrieben. Es ist uns gelungen, nicht- und halbpolare Wafer mit 26 mm × 26 mm herzustellen. diese Wafer besitzen hervorragende strukturelle und optische Eigenschaften mit einer Di...
Waferskalenanordnungen von wohlgeordneten pb (zr0,2ti0,8) o3-Nanodisks und Nanoringen wurden auf der gesamten Fläche (10 mm × 10 mm) der srruo3-Bodenelektrode auf einem Srrio3-Einkristallsubstrat unter Verwendung der Laserinterferenzlithographie hergestellt (lil) Prozess kombiniert mit gepulster Laserablagerung. Die Form und Größe der Nanostrukturen wurde durch die Menge an pzt, die durch die gemu...
Wir berichten über das au-assistierte chemische Strahlepitaxie-Wachstum von defektfreien Zinkblende-insb-Nanodrähten. das gewachsene insb Segmente sind die oberen Abschnitte von Inas / Insb-Heterostrukturen auf Inas (111) b -Substraten. Wir zeigen, dass Zinkblende Insb ohne Kristalldefekte wie Stapelfehler oder Zwillingsflächen wachsen kann. Die Strain-Map-Analyse zeigt, dass das INSB-Segment inne...
hochzugbelastete Sub-Monoschicht ge Nanostrukturen auf Gas wurden durch Molekularstrahlepitaxie gezüchtet und mittels Ultrahochvakuum-Rastertunnelmikroskopie untersucht. vier verschiedene deckungsraten von ge nanostrukturen auf gasb werden erreicht und untersucht. Es wird gefunden, dass das Wachstum von Gas auf Gas dem 2d-Wachstumsmodus folgt. das Kristallgitter der Sub-Monoschicht ge Nanostruktur...
Bei homogenen Materialien ermöglicht das Ultraschall-Immersionsverfahren, das mit einem numerischen Optimierungsprozess verbunden ist, der meist auf dem Newton-Algorithmus basiert, die Bestimmung elastischer Konstanten für verschiedene synthetische und natürliche Verbundmaterialien. Eine wesentliche Einschränkung des bestehenden Optimierungsverfahrens liegt jedoch vor, wenn sich das betrachtete Ma...
Es wurde ein vertikaler Heißwand-Epi-Reaktor entwickelt, der es ermöglicht, gleichzeitig eine hohe Wachstumsrate und eine großflächige Gleichförmigkeit zu erreichen. Mit einer spiegelähnlichen Morphologie bei 1650 ° C wird eine maximale Wachstumsrate von 250 µm / h erreicht. Unter einem modifizierten Epi-Reaktor Aufbau, eine Dickengleichmäßigkeit von 1,1% und eine Dotierungsgleichförmigkeit von 6,...